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- 三星电子与约翰霍普金斯大学应用物理实验室 （APL） 一起展示了下一代Peltier冷却技术的进展。Peltier器件通过利用珀尔帖效应进行冷却，其中向半导体施加电流会导致一侧冷却，而另一侧会升温。由于这种方法不依赖制冷剂，因此它正在成为传统冷却系统的一种有前途的环保替代方案。通过首次利用新开发的薄膜 Peltier 半导体器件，并通过先进的纳米工程技术进行增强，研究团队成功创造并展示了高性能 Peltier 制冷机。这种薄膜 Peltier 制冷机的冷却效率超过了传统蒸汽压缩系统的冷却效率，为下一代无制
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高性能 Peltier 制冷设备
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